一、专利名称：一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法

二、专利类别：发明专利

三、专利号：ZL 201610653469.4

四、发明人：时方晓;仝玉莲;高旭

五、专利摘要：本发明提供一种低辐射镀膜玻璃及其制备方法，所述低辐射镀膜玻璃包括玻璃基片及依次溅射于玻璃基片之上的内层介质层、功能层和外层介质层；所述内层介质层和外层介质层均为（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ薄膜，功能层为掺铜银膜，并且在功能层和外层介质层之间还可溅射一层防氧化层。所述制备方法包括：将玻璃基片于氩气和氮气氛围中溅射内层介质层；然后于氩气氛围中在内层介质层上溅射功能层；再于氩气和氮气氛围中在功能层上溅射外层介质层，得到低辐射镀膜玻璃。本发明的低辐射镀膜玻璃的辐射率为０．０５２～０．０５４，光透过率为７４．４～７８．３６％，远红外反射率为９９．８～９９．９９％。

六、转化形式：专利权转让

七、受让方：北京权智天下知识产权代理事务所（普通合伙）厦门分所

八、转让金额：贰万伍仟元整

公告期：2021年11月22日至2021年12月6日，如有异议，请致电024-24692876

                                              科学技术研究院

2021年11月22日