一、专利名称：一种电场控制在单晶硅基片表面制备纳米结构的方法

二、专利类别：发明专利

三、专利号：ZL 201310751681.0

四、发明人：时方晓

五、专利摘要：一种电场控制在单晶硅基片表面制备纳米结构的方法，属于纳米材料技术领域，按以下步骤进行：（１）选用ｎ型Ｓｉ（１１１）硅圆晶片，切割制成长方形的单晶硅基片；（２）固定于分子束外延室的真空室样品台上；在真空条件下加热清洁其表面；（３）向表面沉积Ａｕ原子，获得具有不同重构的表面结构；（４）将Ｉｎ沉积到单晶硅基片中心，获得矩形薄膜片层；（５）施加直流电场驱动电迁移，控制电迁移扩散，获得准二维金属纳米结构。本发明通过预先沉积在硅表面的异质金属膜层将在电场作用下发生定向的迁移扩散，扩散的结果是原始膜层均匀展宽而表面形貌不被破坏，有效地消除某些结构缺陷，如使薄膜表面普遍存在的三维岛状结构趋于平整化，实现原子级表面加工。

六、转化形式：专利权转让

七、被许可方：济南季诚企业管理服务有限公司

一、专利名称：一种制备染料敏化太阳能电池光阳极的方法

二、专利类别：发明专利

三、专利号：ZL 201310536385.9

四、发明人：时方晓;陈美多;高旭

五、专利摘要：一种制备染料敏化太阳能电池光阳极的方法，属于材料技术领域，按以下步骤进行：（１）将纳米晶二氧化钛、成膜剂、表面活性剂加入到乙酰丙酮中，搅拌均匀，制成底层涂膜材料；（２）通过静电喷镀在导电玻璃的导电面喷镀形成底层涂膜；置于马弗炉中烧结，随炉冷却至常温，制成带有底层涂膜的导电玻璃；（３）将二氧化钛颗粒、成膜剂、表面活性剂加入到乙酰丙酮中搅拌均匀，制成顶层涂膜材料；（４）通过静电喷镀在底层涂膜上喷镀形成顶层涂膜；置于马弗炉中烧结，随炉冷却至常温，制成染料敏化太阳能电池光阳极。本发明的方法制备的染料敏化太阳能电池光阳极浸泡Ｎ７１９染料后，吸附染料量较多，且组装成电池后能有效利用太阳光，光电转换效率可达６．５５％。

六、转化形式：专利权转让

七、被许可方：济南季诚企业管理服务有限公司

 

一、专利名称：一种快速制备大面积染料敏化太阳能电池的装置及方法

二、专利类别：发明专利

三、专利号：ZL 201210443427.X

四、发明人：时方晓;许赞扬;高旭

五、专利摘要：一种快速制备大面积染料敏化太阳能电池的装置及方法。本发明涉及新能源领域中的染料敏化太阳能电池制造工艺的优化。染敏电池研究中目前亟待解决的一个关键问题就是光电转化效率和电池稳定性都因制备方法不同而明显不同，这严重地制约了它的工业化生产与大规模应用。本发明提出一种基于静电雾化原理的喷射沉积方法制备染敏薄膜电池，即利用静电喷射技术结合计算机自动控制模拟印刷的方式在各种衬底材料上直接堆叠组装形成薄膜电池模块，通过优化相关工艺参数可以获得高质量大面积染料敏化薄膜电池，它能够克服丝网印刷法制备电极薄膜所导致的栅线断线、短路和波浪网纹等缺陷，以及磁控溅射镀膜太致密不均匀的缺点。

六、转化形式：专利权转让

七、被许可方：济南季诚企业管理服务有限公司

转让金额合计：壹万伍仟元整

 

公告期：2021年9月13日至2021年9月27日，如有异议，请致电024-24692873

 

                                                科学技术研究院

                                                 2021年9月13日